低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍 的溫度J確控制，應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測 量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用。
低溫恒溫槽裝置精密恒溫控制系統(tǒng)，整個量程范圍的溫度J確可控，噪音低，制冷效率高。其它制冷關鍵配件也采用全進口配件；制冷系統(tǒng)具備高壓保 護器，確保制冷系統(tǒng)安全。低溫恒溫槽裝置采用全封閉磁力泵循環(huán)攪拌，溫場均勻，無泄漏，傳感器開路、短路保護、雙重溫度保護等功能，確保儀器安全運行。
低溫恒溫槽裝置可在機內水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進行恒定溫度試驗或測試，可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源。低溫恒溫槽裝置內置新一代溫度控制程序，確保設備運行穩(wěn)定，全封閉壓縮機組制冷，制冷系統(tǒng)具有過熱、過電流多重保護裝置。
低溫恒溫槽裝置可以把槽內被恒溫液體外引，建立第二恒溫場，槽內冷液可外引，冷卻機外實驗容器，也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗，采用模擬數(shù)字PID自動控制系統(tǒng)，溫度數(shù)字顯示，內膽、臺面均為全不銹鋼，清潔衛(wèi)生，美觀耐腐蝕。低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度J確控制，應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用。
低溫恒溫槽裝置精密恒溫控制系統(tǒng)，整個量程范圍的溫度J確可控，噪音低，制冷效率高。其它制冷關鍵配件也采用全進口配件；制冷系統(tǒng)具備高壓保護器，確保制冷系統(tǒng)安全。低溫恒溫槽裝置采用全封閉磁力泵循環(huán)攪拌，溫場均勻，無泄漏，傳感器開路、短路保護、雙重溫度保護等功能，確保儀器安全運行。